Рассмотрен процесс спинового химического катализа на поверхности полупроводника. Обсуждены следующие случаи: статический и динамический, а также плоской и фрактальной поверхности.
| № | Имя автора | Должность | Наименование организации |
|---|---|---|---|
| 1 | Kutlimuratov B.R. | ||
| 2 | Ashurov X.B. | ||
| 3 | Nikiforova N.N. |
| № | Название ссылки |
|---|---|
| 1 | Buchachenko A.L., Vtoroe pokolenie magnitnykh ehffektov v khimicheskikh reakcijakh, Uspekhi khimii (1993), t. 62, s. 1139-1149. |
| 2 | D. Fenner, D. Biegelsen, R. Bringans, J. Appl. Phys. (1989), v. 66 (1), 419. |
| 3 | Leigh Canham, Properties of Porous Silicon, Published by: INSPEC, The Institution of Electrical Engineers, London, 405 p. |
| 4 | Mott N., Sneddon I., Volnovaja mekhanika i ee primenenija, Per. s angl. – M.: Nauka, 1966, 428 s. |
| 5 | Feder E., Fraktaly, Per. s angl., Moskva: Mir, 1991, 260 s |