logo
calendar4 ноябр 2021
view2
Asosiy til:Rus

ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ХАРАКТЕРА ТЕРМООБРАБОТКИ НА ВРЕМЯ ЖИЗНИ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В КРЕМНИИ, ЛЕГИРОВАННОМ МЕДОМ

Fan yo'nalishi:
pdf

618375a4e6d02.pdf

PDF

MAQOLA ANNOTATSIYASI

quote
Ушбу ишда монокристалл кремнийда заряд ташувчиларнинг яшаш вақтини легирловчи мис киришмаларининг концентрациясига ва диффузиядан кейинги совитишга боғлиқлиги ўрганилган. Олинган натижалар асосий бўлмаган заряд ташувчиларнинг ёпишиш сатхида қайта тақсимланиши билан тушунтирилган. Компенсирланган p-Si ва назорат p-Si намуналарида релаксация жараёни турли хил бўлади: p-Si учун  98 ва p-Siучун  5. Тадқиқ қилинган намуналарда ўтказувчанлик бўйича турли даражадаги микрохархиллик туфайли заряд ташувчиларнинг бошланғич концентрацияси ортиши билан (бу холда бор-В) компенсирланган кремнийда яшаш вақти ҳам ортиши аниқланган.

MUALIFLAR

Teglar

# диффузия# silicon# кремний# термообработка# мис# heat treatment# potential barrier# глубокоуровневые центры# термоотжиг# примесный дефект# потенциальный барьер# микронеоднородность..# deep-level centers# heat annealing# impurity defect# microinhomogeneity..# крeмний# микрохархиллик# термик ишлов# яшаш вақти.

Maqolani baholang

0

0 ta

Maqola idintifikatorlari

Foydalanilgan adabiyotlar

Е. А. Татохин, А. В. Буданов, И. Ю. Бутусов, Л. В. Васильева, Е.А. Тутов. Вестник ВГУ, серия: Физика. математика, 2008, № 2. С. 60-70.

В.И.Фистуль. Введение в физику полупроводников. М.: Высшая школа, 1984. C. 352.

Юнусов М.С., Каримов М., Джалелов М.А. ФТП. Санкт–Петербург, 2001. Т- 35. №3. С. 317-320.

Влияние примеси меди на электрофизические и рекомбинационные свойства кремния при термо- и радиационном воздействии: диссертасия ... кандидата физико - математических наук: 01.04.07 / Махмудов Шерзод Ахмадович; [Место защиты: ИЯФ АН РУз ].- Ташкент, 2012. - 126 с.

А.Милнс. Примеси сглубокими уровнями в полупроводниках /Под ред. док. физ .- мат. наука М.К.Шейнкман. Мир, М.(1977) 502 с.

Каримов М., Махкамов Ш., Турсунов Н.А., Махмудов Ш.А., Бегматов К.А., Караходжаев А.К., Садиков А.Х. Кинетика релаксации фотопроводимости в кремнии р-типа, компенсированном атомами фосфора // Известия вузов. Физика. 2009 г., № 5. С. 9-12.

М.Ю. Ташметов, Ш.А. Махмудов, А.А. Сулаймонов, А.К. Рафиков, Б.Ж. Абдурайимов. Фотодатчики на основе нейтронного легированного кремния. Гелиотехника, 2018. Вып. 6. С. 61-64.

Кожемяко А.В., Евсеев А.П., Балакшин Ю.В., Шемухин А.А. Физика и техника полупроводников. 2019, выпуск 6, С. 810.

М.Каримов, А.К.Караходжаев. Известия вузов. Физика, 7, 54 (2001).

А.А. Istratov , E.R. Weber. Арр1. Phys. А 66, 123 (1998).

Сухоруков А.В., Ежевский А.А., Гусев А.В., Гусейнов Д.В., Попков С.А. Процессы спиновой релаксации электронов проводимости в кремнии с различным изотопным составом.Журнал. Вестник Нижегородского университета им. Н.И. Лобачевского. 2010. №5 (2), С. 335-338

Джуплин В.Н. Дефектообразование в кремнии под пленками никеля при термообработке. Журнал «Известия ЮФУ. Технические науки» 2000 г.№5, С. 16-21.

С.З.Зайнабидинов, Х.С.Далиев. Дефектообразование в кремнии. Университет, Ташкент (1993) 190 с.

С.Зайнабидинов. Физические основы образования глубоких уровней в кремнии. Фан,Ташкент (1984) 168 с.

D.V. Lang . J. Appl. Phys. 45, 3023 (1974)

public

SLIB.uz — O'zbekiston ilmiy jurnallari va maqolalar yagona tizimda ilmiy nashirlarni bir joyda ko'rish, izlash va ulardan foydalanish imkonini beruvchi zamonaviy platforma.

Ijtimoiy tarmoqlarda
instagramtelegramyoutubefacebook

Bog'lanish uchun

Manzil:Chilonzor tumani Qatortol ko'chasi 60B

Tel:+998(55)511-44-00

Savol-javob va takliflar uchun

© 2026 Barcha huquqlar himoyalangan.