Danilin B.S., Dol'skiy V.A., Shinkarenko Yu.L. Poluchenie tonkoplenochnix sloev ravnomernoy tolshini na podlojkax slojnogo profilya // Elektronnaya texnika. Ser.3. Mikroelektronika, 1973. Vip. 6 (46). S. 94–101.

Bol'shanin A.F., Jiglinskiy A.G., Parchevskiy S.G., Putilin E.S. Formirovanie plenok postoyan- noy velichini na osesimmetrichnoy podlojke // OMP, 2014. № 3. S. 39–42.

Kim Chjon Sup, Putilin E.S. Formirovanie tolshini sloev vakuumnim ispareniem // Opticheskiy jurnal, 1998. T. 65. № 10. S. 108–112.

Kotlikov Ye.N., Ivanov V.A., Prokashev V.N., Tropin A.N. Ravnomernost' tolshini plenok, osaj- dennix na vrashayushiesya podlojki. // Opticheskiy jurnal, 2009. T. 76. № 2. S. 58–62.

Kuz'michev A.I., Sibul'skiy L.Yu. Modelirovanie osajdeniya plenok pri termova-kuumnom isparenii iz tiglya. // Elektronika i svyaz'. Tematicheskiy vipusk «Elektronika i nanotexnologii», Ch.2. 2009. S. 78-82.

Sagatelyan G.R., Shishlov A.V. Analiz raspredeleniya tolshini tonkoplenochnogo po-kritiya pri magnetronnom napilenii na ustanovkax s planetarnim peremesheniem podloj-ki. // Nauka i obrazovanie. MGTU im. N.E. Baumana. Elektronniy jurnal, 2014. № 11. DOI: 10.7463/1114.0733662.

Kotlikov Ye.N., Ivanov V.A., Prokashev V.N., Tropin A.N. Optimizasiya osnastki vakuumnoy kameri pri izgotovlenii opticheskix pokritiy. // Nauchnoe priborostroenie, 2010. Tom 20. № 1. S. 59–64.

Nikonenko V.A. Matematicheskoe modelirovanie texnologicheskix prosessov: Mode-lirovanie v srede MathCAD. / Pod red. G.D. Kuznesova. – M.: MISIS, 2001. – 48 s.

Oring M. Materials Science of Thin Films. Deposition and Structure. – London: Academic Press, 2002. – 794 p.

Xoffman D., Singx B., Tomas Dj. Spravochnik po vakuumnoy texnike i texnologiyam. – M.: Texnosfera, 2017. – 520 s.

Mayssel D., Gleng R. Texnologiya tonkix plenok. – M.: Sov. radio, 1977. T.1. – 657 s.

Smith D.L. Thin-Film Deposition: Principles and Practice. Singapore: McGraw-Hill Co., 1997. – 616 p.