Chen X.C., Tolbert L.M., Hess D.W., Henderson C.L. New polymers for thin film lithography. Macromolecules, 2001. V.34. No.12. P.4104–4108.

Лапшинов Б.А. Технология литографических процессов: Учебное пособие - М.:МИЭМ, 2011.

Технология и конструкции микросхем, микропроцессоров и микросборок / Под редакцией Л. А. Коледова. - СПб.: Издательство «Лань», 2007. - 400 с.

Suzuki Ed. K., Smith B.W. Microlithography science and technology. China: CRC Press, 2007.

Хоботнев О.Ю. Математическая модель формирования сплошных тонких пленок центрифугированием в производстве элементной базы микроэлектроники.- Дис., к.т.н., –Воронеж: 2006. - 138 с.

Тимошенков С.П., Ануфриенко В.В., Мьо Хейн Зо. Особенности формирования фоторезистивных пленок на подложках некруглой формы // Известия вузов, «Электроника» – М.: МИ- ЭТ, 2007. № 6. С. 71-74.

Краткий справочник физико-химических величин некоторых неорганических и органических соединений / Л. Ю. Брусенцева, А.А. Кудряшова – Самара: НОУ ВПО СМИ «РЕАВИЗ», 2011. – 68 с.