Методами DLTS и ФЕ изучен энергетический спектр дефектов в кремнии, легированном атомами молибдена. Обнаружено, что диффузионное введение Mo в Si приводит к образованию трех глубоких уровней с энергиями ионизации Ес-0.20 эВ и Ес - 0.29 эВ и Еv+0.36 эВ. Показано, что термическая и оптическая энергии активации уровней в n-Si практически совпадают