459

В статье рассматривается оценка распределения толщины вакуумных покрытий при их
напылении из различных устройств. Проведена оценка распределения толщин вакуумных
покрытий, осаждаемых из испарителей с различной индикатрисой на плоские подложки в
вакуумных рабочих камерах. Представлено применение разработанной компьютерной про-
граммы для практической оценки толщин покрытий, позволяющей выбирать рациональные
сочетания геометрических факторов при осаждении покрытий. Полученные результаты
вакуумного осаждения металлических функциональных покрытий согласуются с расчетны-
ми данными и позволяют предварительно оценить степень равномерности по толщине
формируемых покрытий с использованием моделирования в программе MathCAD.

  • Web Address
  • DOI
  • Date of creation in the UzSCI system 09-11-2019
  • Read count 412
  • Date of publication 02-08-2019
  • Main LanguageRus
  • Pages40-47
Русский

В статье рассматривается оценка распределения толщины вакуумных покрытий при их
напылении из различных устройств. Проведена оценка распределения толщин вакуумных
покрытий, осаждаемых из испарителей с различной индикатрисой на плоские подложки в
вакуумных рабочих камерах. Представлено применение разработанной компьютерной про-
граммы для практической оценки толщин покрытий, позволяющей выбирать рациональные
сочетания геометрических факторов при осаждении покрытий. Полученные результаты
вакуумного осаждения металлических функциональных покрытий согласуются с расчетны-
ми данными и позволяют предварительно оценить степень равномерности по толщине
формируемых покрытий с использованием моделирования в программе MathCAD.

№ Author name position Name of organisation
1 Kamardin A.I. IPLT AN RUz
2 Nazarov A.M. dotsent TDTU
3 Xasanov M.M. katta o'qituvchi TDTU
4 Radjabov T.D. professor TATU
5 Igamov B.D. doktorant TDTU
№ Name of reference
1 Xoffman D., Singx B., Tomas Dj. Spravochnik po vakuumnoy texnike i texnologiyam. – M.: Texnosfera, 2017. – 520 s.
2 Mayssel D., Gleng R. Texnologiya tonkix plenok. – M.: Sov. radio, 1977. T.1. – 657 s.
3 Smith D.L. Thin-Film Deposition: Principles and Practice. Singapore: McGraw-Hill Co., 1997. – 616 p.
4 Oring M. Materials Science of Thin Films. Deposition and Structure. – London: Academic Press, 2002. – 794 p.
5 Danilin B.S., Dol'skiy V.A., Shinkarenko Yu.L. Poluchenie tonkoplenochnix sloev ravnomernoy tolshini na podlojkax slojnogo profilya // Elektronnaya texnika. Ser.3. Mikroelektronika, 1973. Vip. 6 (46). S. 94–101.
6 Bol'shanin A.F., Jiglinskiy A.G., Parchevskiy S.G., Putilin E.S. Formirovanie plenok postoyan- noy velichini na osesimmetrichnoy podlojke // OMP, 2014. № 3. S. 39–42.
7 Kim Chjon Sup, Putilin E.S. Formirovanie tolshini sloev vakuumnim ispareniem // Opticheskiy jurnal, 1998. T. 65. № 10. S. 108–112.
8 Kotlikov Ye.N., Ivanov V.A., Prokashev V.N., Tropin A.N. Ravnomernost' tolshini plenok, osaj- dennix na vrashayushiesya podlojki. // Opticheskiy jurnal, 2009. T. 76. № 2. S. 58–62.
9 Kuz'michev A.I., Sibul'skiy L.Yu. Modelirovanie osajdeniya plenok pri termova-kuumnom isparenii iz tiglya. // Elektronika i svyaz'. Tematicheskiy vipusk «Elektronika i nanotexnologii», Ch.2. 2009. S. 78-82.
10 Sagatelyan G.R., Shishlov A.V. Analiz raspredeleniya tolshini tonkoplenochnogo po-kritiya pri magnetronnom napilenii na ustanovkax s planetarnim peremesheniem podloj-ki. // Nauka i obrazovanie. MGTU im. N.E. Baumana. Elektronniy jurnal, 2014. № 11. DOI: 10.7463/1114.0733662.
11 Kotlikov Ye.N., Ivanov V.A., Prokashev V.N., Tropin A.N. Optimizasiya osnastki vakuumnoy kameri pri izgotovlenii opticheskix pokritiy. // Nauchnoe priborostroenie, 2010. Tom 20. № 1. S. 59–64.
12 Nikonenko V.A. Matematicheskoe modelirovanie texnologicheskix prosessov: Mode-lirovanie v srede MathCAD. / Pod red. G.D. Kuznesova. – M.: MISIS, 2001. – 48 s.
Waiting