|
МОРФОЛОГИЯ ПОВЕРХНОСТИ ПЛЕНОК NiSi2/Si ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ ТВЕРДОФАЗНОЙ ЭПИТАКСИИ
«Современные тенденции развития физики полупроводников: достижения, проблемы и перспективы»
|
Mustafoeva N..,
Tashatov A.. |
O'zbek |
330 |
236 |
|
СРАВНЕНИЕ ПАРАМЕТРОВ ГЕТЕРОЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СТРУКТУР, ПОЛУЧЕННЫХ РАЗЛИЧНЫМИ МЕТОДАМИ И ВОЗМОЖНЫЕ ОБЛАСТИ ИХ ПРАКТИЧЕСКОГО ПРИМЕНЕНИЯ
«Современные тенденции развития физики полупроводников: достижения, проблемы и перспективы»
|
Tashatov A..,
Egamberdiev O..,
Khuzhamberdieva J.. |
Rus |
367 |
269 |
|
ИЗУЧЕНИЕ СОСТАВА, МОРФОЛОГИИ И ЭЛЕКТРОННОЙ СТРУКТУРЫ НАНОПЛЕНОК NiSi2 ИСПОЛЬЗУЕМЫХ В ПРИБОРАХ СОЛНЕЧНОЙ ЭНЕРГЕТИКИ
MUQOBIL ENERGETIKA
|
Aliqulov M.N.,
Tashatov A..,
Mustafoyeva N.M.,
Eshboboyev S.M. |
Rus |
304 |
304 |
|
ИЗУЧЕНИЕ СОСТАВА, МОРФОЛОГИИ И ЭЛЕКТРОННОЙ СТРУКТУРЫ НАНОПЛЕНОК NiSi2, ПОЛУЧЕННЫХ НА ПОВЕРХНОСТИ Si(111)
MUQOBIL ENERGETIKA
|
Tashatov A..,
Mustafoyeva N.M.,
Xakimova D..,
Sanaqulova A.M. |
Rus |
261 |
261 |
|
ИССЛЕДОВАНИЕ ЭЛЕКТРОННО-ЗОННЫХ ПАРАМЕТРОВ SiO2 ИМПЛАНТИРОВАННОГО ИОНАМИ БАРИЯ
Инновацион технологиялар
|
Tashatov A..,
Normurodov D.A.,
Baxadirov I.I. |
Rus |
66 |
66 |
