516

В статье рассматриваются результаты анализа работы устройства и оптимизация
процессов нанесения полимерных покрытий на плоские образцы центрифугированием из
растворов. Приведены выбранная конструкция центрифуги и оптимизированные режимы
двухстороннего нанесения покрытий-позитивных фоторезистов толщиной порядка 1 мкм
на подложки различной формы. Установлено, что толщина покрытий однозначно определя-
ется вязкостью раствора, скоростью и ускорением ротора центрифуги. Представлены ре-
комендации по оптимизации процесса нанесения полимерного покрытия на плоские образцы.

  • Ссылка в интернете
  • DOI
  • Дата создание в систему UzSCI 15-10-2019
  • Количество прочтений 463
  • Дата публикации 19-04-2018
  • Язык статьиRus
  • Страницы9-15
Русский

В статье рассматриваются результаты анализа работы устройства и оптимизация
процессов нанесения полимерных покрытий на плоские образцы центрифугированием из
растворов. Приведены выбранная конструкция центрифуги и оптимизированные режимы
двухстороннего нанесения покрытий-позитивных фоторезистов толщиной порядка 1 мкм
на подложки различной формы. Установлено, что толщина покрытий однозначно определя-
ется вязкостью раствора, скоростью и ускорением ротора центрифуги. Представлены ре-
комендации по оптимизации процесса нанесения полимерного покрытия на плоские образцы.

№ Имя автора Должность Наименование организации
1 Xamraeva G.A. katta ilmiy hodim
2 Kamardin A.I. katta ilmiy hodim
3 Nazarov A.M. texnika fanlari doktori
4 Ochilov B.X. doktorant
№ Название ссылки
1 Chen X.C., Tolbert L.M., Hess D.W., Henderson C.L. New polymers for thin film lithography. Macromolecules, 2001. V.34. No.12. P.4104–4108.
2 Лапшинов Б.А. Технология литографических процессов: Учебное пособие - М.:МИЭМ, 2011.
3 Технология и конструкции микросхем, микропроцессоров и микросборок / Под редакцией Л. А. Коледова. - СПб.: Издательство «Лань», 2007. - 400 с.
4 Suzuki Ed. K., Smith B.W. Microlithography science and technology. China: CRC Press, 2007.
5 Хоботнев О.Ю. Математическая модель формирования сплошных тонких пленок центрифугированием в производстве элементной базы микроэлектроники.- Дис., к.т.н., –Воронеж: 2006. - 138 с.
6 Тимошенков С.П., Ануфриенко В.В., Мьо Хейн Зо. Особенности формирования фоторезистивных пленок на подложках некруглой формы // Известия вузов, «Электроника» – М.: МИ- ЭТ, 2007. № 6. С. 71-74.
7 Краткий справочник физико-химических величин некоторых неорганических и органических соединений / Л. Ю. Брусенцева, А.А. Кудряшова – Самара: НОУ ВПО СМИ «РЕАВИЗ», 2011. – 68 с.
В ожидании