logo
calendar28 Oktabr 2020
view55
Main language:Russian

РАДИАЦИОННОЕ И ТЕРМИЧЕСКОЕ ДЕФЕКТООБРАЗОВАНИЕ В КРЕМНИЕВЫХ МДП-СТРУКТУРАХ С ПРИМЕСЯМИ ТУГОПЛАВКИХ ЭЛЕМЕНТОВ

Field of Science:
pdf

file.pdf

PDF

ARTICLE ANNOTATION

quote
Исследовано влияние изохронного отжига на параметры МДП-структур с примесями вольфрама и молибдена, облученных g-квантами 60Со. Показано, что присутствие в кремниевой подложке МДП-структур примесей тугоплавких элементов - вольфрама или молибдена приводит к стабилизации всех параметров исследуемых структур Al-SiO2-Si и Al-SiO2-Si при различных термообработках при температурах Тотж=70÷400оС и облучении. Установлено, что предварительный отжиг МДП-структур с примесями W и Mo при 350оС в течение 30 минут в атмосфере азота, проведенный в целях снижения плотности поверхностных состояний, уменьшает концентрацию радиационных дефектов, вводимых облучением.

AUTHORS

K.Daliev

исполнительный директор филиала НИУ «МЭИ» в городе Ташкенте

SH.Daliev

НИИ физики полупроводников и микроэлектроники при НУУЗ

A.Paluanova

НИИ физики полупроводников и микроэлектроники при НУУЗ

Z.Khusanov

Национальный университет Узбекистана имени Мирзо Улугбека

Tags

# легирование# impurity# silicon# alloying# кремний# вольфрам# термообработка# примесь# тугоплавкий элемент# heat treatment# refractory element# tungsten# облучение# irradiation# МДП-структура# MIS - structure

OTHER ARTICLES IN THIS JOURNAL

Rate Article

0
0 ratings
5
4
3
2
1

Article Identifiers

References

Яримўтказгичлар физикаси ва микроэлектроника