Name | 2019, Том 1, выпуск 2 | ||
Journal | Физика полупроводников и микроэлектроника | ||
Volume Number | 1 | ||
Published At | 28/04/2019 | ||
Pages | 70 | ||
Issue Number | 2 | ||
Total number | 6 | ||
File |
The full name of the article | Language | Pages | View count | Read count |
---|---|---|---|---|
ВЛИЯНИЕ ПРИМЕСНЫХ АТОМОВ РОДИЯ И ИРИДИЯ НА ЕМКОСТНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ Si-SiО2 СТРУКТУР Физика полупроводников и микроэлектроника |
Rus | 10-15 | 594 | 0 |
Физика полупроводников и микроэлектроника |
Rus | 16-21 | 470 | 0 |
СПОСОБ ГЕРМЕТИЗАЦИИ ДАТЧИКОВ ТЕМПЕРАТУРЫ С НАНОКЛАСТЕРАМИ НИКЕЛЯ Физика полупроводников и микроэлектроника |
Rus | 22-26 | 542 | 0 |
ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕСВОЙСТВАМНОГОСЛОЙНЫХФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХСТРУКТУРСБАРЬЕРАМИМЕТАЛЛ-ПОЛУПРОВОДНИК Физика полупроводников и микроэлектроника |
Rus | 27-35 | 560 | 0 |
КАСКОДНЫЙ ИНЖЕКЦИОННО-ВОЛЬТАИЧЕСКИЙ ТРАНЗИСТОР Физика полупроводников и микроэлектроника |
Rus | 36-40 | 461 | 0 |